專注于膠粘劑的研發(fā)制造
低 VOCs含量膠粘劑,環(huán)保型水處理劑,新型高效、環(huán)保催化劑和助劑,功能性膜材料,超凈高純試劑、光刻膠、電子氣體、新型顯示和先進封裝材料等電子化學(xué)品及關(guān)鍵原料的開發(fā)與生產(chǎn)。這意味著“水基、熱熔、無溶劑、輻射固化、改性、生物降解等低VOCs含量的膠粘劑”將進一步迎來發(fā)展機遇。
光刻膠所在產(chǎn)業(yè)鏈覆蓋范圍十分廣泛,從上游基礎(chǔ)化工材料行業(yè)、精細化學(xué)品行業(yè)到中游光刻膠制備,到下游 PCB、面板、半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè),再到電子等應(yīng)用終端。光刻膠作為微電子領(lǐng)域微細圖形加工核心上游材料,占據(jù)電子材料至高點。
光刻膠?又稱光致抗蝕劑,本質(zhì)是一種感光材料,是電子領(lǐng)域微細圖形加工的關(guān)鍵性材料,在半導(dǎo)體、LCD、PCB等行業(yè)的生產(chǎn)中具有重要作用。近年來,隨著集成電路的快速發(fā)展,光刻膠行業(yè)景氣度不斷提高。
2021年2月,位于日本東北地區(qū)最南部的福島縣發(fā)生了一場7.3級地震。這場地震雖沒有像2011年那場9級地震一樣導(dǎo)致核電廠泄漏,但卻造成了設(shè)立在福島縣周邊半導(dǎo)體工廠的數(shù)日停產(chǎn)。汽車芯片大廠瑞薩電子的那坷工廠、位于宮城縣的索尼半導(dǎo)體工廠,與福島鄰近的巖手、群馬等地,也匯集了MLCC廠商TDK和太陽誘電,以及存儲器廠商鎧俠...
光刻膠本質(zhì)是一種感光材料,也稱光致抗蝕劑,主要用于微電子技術(shù)中微細圖形加工。在紫外光、電子束、離子束、X射線等照射或輻射下,光刻膠溶解度會發(fā)生變化,再經(jīng)適當(dāng)溶劑溶去可溶性部分,便可實現(xiàn)圖形從掩模版到待加工基片上的轉(zhuǎn)移。進一步,未溶解部分光刻膠作為保護層,在刻蝕步驟中保護其下方材料不被刻蝕,從而完成電路制作。產(chǎn)品分類上,...
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